淺談AMC在潔凈室中的重要性
hkqdg.cn 2019-02-27 22:18:30 閱讀
摘要: AMC是危害生產工藝并導致成品率降低的分子態(tài)化學物質,從AMC定義、分類、來源和去除方法進行探討和分析。 關鍵詞: 半導體;AMC;污染物;化學過濾器 。
0 引言
半導體生產制程包含精密的微機電和積體電路,對于生產環(huán)境之潔?Q度的要求特別嚴格,因此整個制造過程都在嚴格控制的環(huán)境條件下,也就是一般熟悉的潔?Q室。在潔凈室技術中,污染不僅包括嚴格意義上的灰塵的微粒,還包括任何有干擾作用的固體、液體、氣體、熱、電磁。所以需要小心控制污染控制的生產有關的環(huán)境,這可能會有負面影響的過程和產品的質量。
大多數(shù)潔凈室會避免的懸浮微粒污染,因為微粒為大顆粒,通過HEPA/ULPA過濾器足以控制,但是懸浮分子污染,為小顆粒,傳統(tǒng)上,HEPA和ULPA是半導體工藝中賴以控制微粒污染的技術,但隨著尺寸由0.25μm快速演進到0.13μm快甚至納米(2.5m/s)化學濾網。
2)設備進氣口之高效過濾風機組單元(FFU)上游處,設置低風速型,(VV>1.2m/s)。
3 結語
當前半導體制程技術發(fā)展迅猛,芯片線寬已經進入納米級,因此半導體潔凈室內AMC的控制更顯重要。在AMC的控制中的首要步驟是通過監(jiān)測分析,識別污染的來源和通過調整材料和工藝流程以去除污染物。同時在新風、循環(huán)風以及機臺側考慮安裝合適的化學過濾器,來保護生產環(huán)境。第三,對于潔凈室內某區(qū)域溫濕度異常波動,需要巧妙運用在線檢測的數(shù)據,去系統(tǒng)分析任何一次超出控制的異常情況,找到引起溫濕度異常波動的真實原因,從而找到有效的對策以避免問題的再次發(fā)生。最后對整個半導體代工業(yè)的潔凈室技術的現(xiàn)狀和新技術進行總結和比較,并展望本行業(yè)將來的發(fā)展趨勢。
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